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光刻设备≠光刻机（第1页）

一、1931年鲁斯卡使用冷阴极放电电子源和三个电子透镜改装高压示波器，次实现电子显微成像。1932年鲁斯卡进一步改进设计，将分辨率提升至5o纳米，标志着电子显微镜进入实用阶段。

二、世界上第一台五坐标联动数控机床诞生于1ron）生产。

三、1881年德国科学家马克斯·舒勒（maxschu1er）明了第一台光刻机，用于印刷术。1952年美国科学家理查德·霍夫（Richardhove）和弗雷德里克·特勒（FrederickTe11er）明了第一台电子束光刻机，用于半导体制造。1958年美国德克萨斯仪器公司（TexasInstruments）试制成功世界上第一块平面集成电路，标志着光刻技术开始应用于半导体领域。1959年荷兰飞利浦公司研出第一台商用光刻机，应用于半导体产业。

1s和a1terL.Bond开始采用光刻技术在印刷电路板上制作图案，使用二氧化硅层在硅片上产生更精细、更复杂的设计。1957年，美国陆军diamondordnanceFuse实验室的JayLathrop和Jamesna11获得了光刻技术的专利，该技术用于沉积约2oo微米宽的薄膜金属条。1958年，Fairchi1d的JayLast和Robertnoyce制造了批“步进重复”相机之一，利用光刻技术在单个晶圆上制造了许多相同的硅晶体管。1959年，gnet，成为光刻技术的先驱之一。

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